(蘇威)索爾維Hyflon系列PFA和MFA特種聚合物

日期：2022-08-04 10:06:44 編輯：科思德塑膠來源：科思德塑膠瀏覽：229

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Hyflon® AD 產品牌號

Hyflon® AD 40H

Hyflon® AD 40L

Hyflon® AD 60

Hyflon® PFA 產品牌號	Hyflon® MFA® 產品牌號
Hyflon® PFA 120X	Hyflon® MFA® 1041
Hyflon® PFA 125X	Hyflon® MFA® F1520
Hyflon® PFA 140X	Hyflon® MFA® F1540
Hyflon® PFA P420	Hyflon® MFA® F1750X
Hyflon® PFA P430X	Hyflon® MFA® 6521
Hyflon® PFA P450
Hyflon® PFA P455X
Hyflon® PFA M620
Hyflon® PFA M640

特性		AD 40	AD 60
密度	g/cm³	1.98	1.93
T_g	°C	95	125
折射率		1.331	1.327

適用于半導體和膜應用的美國(蘇威)索爾維Hyflon-AD
Hyflon® AD 是一系列非結晶全氟聚合物，其性能特性類似于半結晶性全氟聚合物。
主要特性
高溫穩定性
良好的耐化學性
優異的疏水性
極低的表面能
低介電常數
極高的氣體滲透性和選擇性
出色的光學性能（如紫外線透射率高，而折射率低）
美國(蘇威)索爾維Hyflon-AD系列PFA非結晶全氟聚合物加工：
Hyflon® AD 聚合物具有一項與眾不同的特征，即可在某些溶劑中溶解。尤其是它們在全氟溶劑中的高溶解性和低溶液粘度，使 Hyflon® AD 適用于溶液加工技術。
憑借流延或涂覆技術及熱處理（遠低于半結晶性全氟聚合物的常用烘烤溫度），Hyflon® AD可以生產出均勻的薄膜或薄涂層（厚度可低至亞微米）。
美國(蘇威)索爾維Hyflon-AD應用：
半導體
由于具有以下獨特特性，Hyflon® AD 可用于生產電子產品的光罩護膜（顯微光刻）：
出色的光學性能
極低的表面能
極低的介電常數
形成均勻的薄膜或薄涂層（厚度可低至亞微米）的能力
適合采用溶液加工技術（噴涂、流延及旋涂）
在全氟溶劑中的溶解性（低溶液粘度）
滲透膜
由于具有以下優點，Hyflon® AD 適用于制備各種氣體分離膜：
極高的氣體滲透性和選擇性
優異的疏水性
高溫穩定性
形成均勻的薄膜或薄涂層（厚度可低至亞微米）的能力
適合采用溶液加工技術（噴涂、流延及旋涂）
在全氟溶劑中的溶解性（低溶液粘度）。